國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)亮點(diǎn)

上海微電子裝備：

　　封裝光刻機(jī)目前已經(jīng)在生產(chǎn)線中應(yīng)用。

　　北方微電子：

　　2025年9月第一臺(tái)8英寸100納米等離子刻蝕機(jī)進(jìn)入中芯國(guó)際，2025年又分別銷售給上海華虹NEC和上海宏力半導(dǎo)體公司，通過(guò)四五年的運(yùn)行，已驗(yàn)證其優(yōu)越的工藝性能和穩(wěn)定可靠的設(shè)備能力。2025年第一臺(tái)12英寸90納米等離子刻蝕機(jī)進(jìn)入北京中芯國(guó)際，2025年5月12英寸65納米等離子刻蝕機(jī)進(jìn)入中芯國(guó)際。

　　北方微電子公司的8英寸100納米等離子刻蝕機(jī)、12英寸65納米等離子刻蝕機(jī)、晶硅太陽(yáng)能平板PECVD設(shè)備、LED大產(chǎn)能ICP刻蝕機(jī)先后進(jìn)入國(guó)內(nèi)主流大生產(chǎn)線，

　　中微半導(dǎo)體：

　　12英寸90nm~65nm介質(zhì)刻蝕機(jī)目前已經(jīng)可以延伸到45nm~32nm的數(shù)量級(jí)，已進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)，在亞洲5條生產(chǎn)線上成功投入使用。下一代產(chǎn)品也會(huì)很快進(jìn)入市場(chǎng)。

　　盛美半導(dǎo)體：

　　上海的盛美半導(dǎo)體公司的清洗設(shè)備也已經(jīng)進(jìn)入韓國(guó)市場(chǎng)。目前盛美半導(dǎo)體采用的兆聲波技術(shù)，能夠在12英寸硅片上實(shí)現(xiàn)兆聲波能量均勻度為2%,在無(wú)損傷條件下，顆粒清除效率（PRE）達(dá)到了世界領(lǐng)先的99%.

　　格蘭達(dá)：

　　激光打標(biāo)機(jī)已經(jīng)分別在兩家驗(yàn)證單位通過(guò)了驗(yàn)收，并且已經(jīng)完全投入到量產(chǎn)中。

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